不銹鋼彎頭的拋光方法：

　　1、機(jī)械拋光，機(jī)械拋光分為粗拋光和細(xì)拋光。粗拋光是在轉(zhuǎn)速200-300轉(zhuǎn)/分的電動(dòng)拋光盤上用粗呢絨進(jìn)行的。在粗拋光的過程中，要適當(dāng)?shù)娜錾陷^粗的氧化鉻、氧化鋁或氧化鎂拋光液，并保持拋光盤上呢絨的濕潤。在粗拋光過程中要拿緊試樣，沿拋光盤的徑向往復(fù)運(yùn)動(dòng)，均勻地調(diào)整所施加的壓力，注意其壓力也不應(yīng)過大。

　　拋光開始時(shí)，要不時(shí)的撒些拋光液。以后慢慢減輕壓力，減低拋光液的濃度直至拋光到細(xì)磨痕消失，平整光亮且沒有黑點(diǎn)時(shí)為止。粗拋光的試樣經(jīng)水洗凈后再進(jìn)行細(xì)拋光，通過細(xì)拋光以求清除粗拋光所留下的磨痕，使磨面光亮平整。細(xì)拋光所用的拋光機(jī)與粗拋光所用的設(shè)備基本相同，其轉(zhuǎn)速為150-200轉(zhuǎn)/分。

　　2、化學(xué)拋光，化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備，可以拋光形狀復(fù)雜的工件，可以同時(shí)拋光很多工件，效率高。化學(xué)拋光的核心問題是拋光液的配制?；瘜W(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm。

　　3、點(diǎn)解拋光，工件上脫離的金屬離子與拋光液中的磷酸形成一層磷酸鹽膜吸附在工件表面，這種黏膜在凸起處較薄，凹處較厚，因凸起處電流密度高而溶解快，隨黏膜流動(dòng)，凹凸不斷變化，粗糙表面逐漸被整平的過程。

　　工件作為陽極接直流電源的正極。用鉛、不銹鋼等耐電解液腐蝕的導(dǎo)電材料作為陰極，接直流電源的負(fù)極。